プロセス最適化シミュレータ

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MEMSの加工技術として厚膜フォトレジストの３次元形状加工・グレースケールフィソグラフィが注目されています。しかし設計した通りに３次元形状の高精度作成が難しく、最適な加工パラメータ（例：マスクパタンー、焦点位置、現像時間）の組み合わせを決定するため試行錯誤が必要です。そこで、開発効率と形状作製の質の向上を目的に、設計形状を入力すれば自動的にパラメーターを最適化するプロセスシミュレータを開発しました。

【応用先】

  • 　グレースケールリソグラフィー装置による３次元立体加工
  • 　MEMS 、マイクロ流体デバイス、マイクロ光学デバイスなど

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[論文]

  • X. Ma, Y. Hirai, etc., APCOT 2014, Daegu, Korea (June, 2014), 6-1
  • X. Ma, Y. Hirai, etc., 9246 SPIE Advanced Lithography 2015, San Jone CA (February, 2015)