エポキシ系ネガレジストを用いた分子フィルタ付マイクロ流路の作製


  紫外線(UV)リソグラフィ技術を応用し、マイクロ流路などの3次元微小構造を加工する技術が注目を集めています。当研究室ではこれまでに、オリジナルな3次元リソグラフィ技術である移動マスク露光法を応用したエポキシ系ネガレジスト製マイクロ流路の加工技術と、そのマイクロ流路内部に多孔質の分子透過膜を一括して作製する加工技術を開発しました。透過膜の分子透過速度を自由に制御できれば、今後、分子フィルタ付マイクロ流路としてバイオアッセイ用デバイスなどバイオ・医学分野への応用が期待できます。本研究ではタンパク質などの生体高分子の透過特性を明らかにすることで、分子フィルタ付マイクロ流路の作製技術の確立を目指しています。

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【研究発表】

[International Conference]

  • Yoshikazu Hirai, Yusuke Nakai, Yoshihide Makino, Koji Sugano, Toshiyuki Tsuchiya, Osamu Tabata,“Epoxy-Based Permeable Membrane Fabrication for 3D Microfluidic Device”, NEMS2011, Kaohsiung, Taiwan, 2011