繊細な可動部や感応部を持つMEMSデバイスにとって雰囲気制御が可能な封止技術は大変重要なものです．本研究ではガラスフリット材料を使用した気密封止用マイクロ流路を作製することを目的としています．この流路はフォトリソグラフィによって作製されたフォトレジストを犠牲層とし，その上からガラスフリット材料を塗布・乾燥する手法で作製され，加圧・加熱によってガラスフリットをリフローすることでつぶれます．これによりデバイスのあるキャビティ内の雰囲気制御とデバイス基板とキャップ基板の接合とを同時に行うことが可能です．さらに犠牲層作製の際に移動マスク露光技術を応用することで流路断面形状を任意に制御することができます．
