田畑研究室と大日本科研（株）【田畑教授の特許（特願2005-142859）を活用】で共同開発した「３次元微細加工用露光装置（移動マスクＵＶ露光装置）」が、「関西フロントランナー大賞2008」を受賞しました。
関西フロントランナー大賞2008 次世代産業振興を目指す企業などで作るネオクラスター推進共同体が将来有望な製品や技術、サービスを表彰するもので、今年は７社が選ばれました。
【リンク】
報道発表 （http://www.kansai.meti.go.jp/3jisedai/20front_runner/jusho_forum.html）
大日本科研 （http://www.kakenjse.co.jp）
【移動マスクＵＶ露光技術の紹介】
Y. Hirai, Y. Inamoto, K. Sugano, T. Tsuchiya, O. Tabata, “Moving Mask UV Lithography for Three-Dimensional Structuring”, Journal of Micromechanics and Microengineering, Vol.17, No. 2 (2007), pp. 199-206.
[abstract]
Y. Hirai, Y. Inamoto, K. Sugano, T. Tsuchiya, O. Tabata, “Moving-Mask UV Lithography for 3-Dimensional Positive- and Negative-Tone Thick Photoresist Microstructuring”, The 14th International Conference on Solid-State Sensors Actuators and Microsystems (Transducers’07), Lyon, France (June, 2007), pp. 545-548.
[abstract]