原子磁気センサのためのガラスフリットリフローによる犠牲マイクロ流路気密封止


本研究は微小な磁場計測を行うことを目的とした原子磁気センサの作製プロセスに取り組んでいます.特にアルカリ金属蒸気と不活性ガスが封入された微小キャビティ(セル)を作製する際に,雰囲気制御と高い気密性実現する封止技術に着目しています.具体的には,Siチップ内にMEMS技術で作製したマイクロ流路をセル内の雰囲気制御に利用するとともに,ガラスフリット(ガラス粉体)のリフロー(溶融)によりこのマイクロ流路を封止して高い気密性を実現する手法です.リフローの様子を解析するシミュレーション技術や共同開発した専用のウェハ接合装置を駆使して,基礎から応用までの研究を展開しています.[ /ja]
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 【主な研究発表】

[International Conference]

  • Y.Hirai,H.Yoshimune,K.Tsujimoto,K.Sugano,T.Tsuchiya,O.Tabata,“Microchannel embedded in glass-frit layer bonding for gas-filled sealed cavity”, HARMST2009,Saskatoon,Canada,2009.
  • K.Tsujimoto,Y.Hirai, K.Sugano,T.Tsuchiya,O.Tabata, “Sacrificial Microchannel Sealing by Glass-Frit Reflow for Micromachined Alkali Gas-Filled Cell”, APCOT2010,Perth, Australia ,2010.