RIE

mechCRwiki

汎用RIE†

Samco 10NR

Specification 仕様†

Gas: O2, Ar, CF4

Technical Infomation†

SiO2 Etching†

SiN Etching using CHF3 (CHF3 is not available now).†

Procedure 利用方法†

Manual (To be updated)†

Operation Training†

1. Contact Prof. Tsuchiya (tutti@me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
2. Get operation training.
3. After operation training,e-mail to Prof. Tsuchiya and Ms. K. Kawano.

Reservation†

1. Book the machine through Website.
2. Use the machine.

Super Users†

Approved Users†

★土屋研究室
Meffan Robert Claude（PD）
井嶋 泰貴（M2）

★平井研究室
岡部 紘明（受託研究員）
野畑 直樹（受託研究員）
新海 正博（受託研究員）
清瀬　俊（D3）
浅越 雄介（M2）
村上 諒（M2）

Machine Administrator†

Toshiyuki Tscuhiya

Photo†