DoubleSideAligner

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[A54]両面露光装置†

ユニオン光学 PEM-800
Nano-Platform Machine

Specification 仕様†

• Upto 4inch Wafer 4インチウエハまで可能
• Mask Holder 2.5 and 5 inch マスクホルダ：2.5インチ及び5インチ
• Backside Mark Alignment 裏面アライメントマークによるアライメント可能
• Resolution 解像度：～2μm
• Compatible for alignment with Vacuum Anodic Bonder 真空陽極接合装置のアライメントに利用可能

Procedure 利用方法†

Operation Training†

1. Contact Prof. R. Yokokawa to get a permission of usage.
2. After approval from Prof. Yokokawa, get operation training from a super user.
3. After operation training, e-mail to Prof. R. Yokokawa and Ms. K. Kawano.

Reservation†

1. Book the machine through Website.
2. Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
3. Use the machine.
4. After usage, sign to the confirmation form.

Super Users†

See SuperUsers Page!

Approved Users†

★Yokokawa lab. 横川研究室
Ryuji Yokokawa, 横川 隆司（教員）
Kazuya Fujimoto,藤本 和也（教員）
Aki Kubo, 久保 亜樹（研究員）
Tomomi Matsumoto,松本 倫美（特定研究員）
Yoshikazu Kameda,亀田 良一（受託研究員)
Ma Cheng(D3）
Sachin Yadav(D3)
Yuji Takata,高田 裕司（D3)
Ayumu Tabuchi，田渕 史（D3）
Atsuya Kitada,北田 敦也(D1)
KOH WEI LUN DARRYL(D1)
Jo Sugawa，洲河 青（M1）

★Tsuchiya lab.土屋研究室
Toshiyuki Tsuchida, 土屋 智由（教員）
Jun　Hirotani，廣谷 潤（教員）
Amit Banerjee（教員）
Claude Meffan, (PD)
Yu Wei,余未，(D3)
Taiki Ijima，井嶋 泰貴（M2）
Tsubasa Suzuki,鈴木 翼（M2）
Shuto Kawaguchi、川口 修大（M2）

★Hirai lab.平井研究室

★Hirayama lab.平山研究室
Naoki Yamashita,山下 直輝（教員）~

★Eriguchi lab.江利口研究室
Takahiro Goya，郷矢 崇浩(D3)
Akira Okada,岡田 晟良（M2）

★Nano-hub ナノハブ
Keiko Kawano, 河野 恵子（研究員）

Machine Administrator†

Ryuji Yokokawa

Photo†