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[A54]両面露光装置†
ユニオン光学 PEM-800
Nano-Platform Machine
Specification 仕様†
- Upto 4inch Wafer 4インチウエハまで可能
- Mask Holder 2.5 and 5 inch マスクホルダ:2.5インチ及び5インチ
- Backside Mark Alignment 裏面アライメントマークによるアライメント可能
- Resolution 解像度:~2μm
- Compatible for alignment with Vacuum Anodic Bonder 真空陽極接合装置のアライメントに利用可能
Procedure 利用方法†
Operation Training†
- Contact Prof. R. Yokokawa to get a permission of usage.
- After approval from Prof. Yokokawa, get operation training from a super user.
- After operation training, e-mail to Prof. R. Yokokawa and Ms. K. Kawano.
Reservation†
- Book the machine through Website.
- Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
- Use the machine.
- After usage, sign to the confirmation form.
Super Users†
See SuperUsers Page!
Approved Users
★Yokokawa lab. 横川研究室
Ryuji Yokokawa, 横川 隆司(教員)
Aki Kubo, 久保 亜樹(技術補佐員)
Erickson Scott(教務補佐員)
Yoshikazu Kameda,亀田良一(D1)
Yuji Takata,高田 裕司(M2)
Ayumu Tabuchi,田渕 史(M1)
Shaji Maneesha(D1)
Du Qian(研究生)
★Tsuchiya lab.土屋研究室
Toshiyuki Tsuchida, 土屋 智由(教員)
Yang Jiandong,楊 建東(D3)
Xia Yuanlin(D1))
Kazuhiko Bun, 文 和彦 (M2)
Yukiko Matsumoto, 松本 有紀子 (M2)
koki Yoshimura,吉村 光葵(M2)
Kentaro kotoya,琴屋 健太郎(M2)
Hiroki takemura,竹村 拓樹(M1)
Akane Nishimura,西邑 亜香音(M1)
Daichi Miura,三浦 大知(M1)
★Hirayama lab.平山研究室
Naoki Yamashita, 山下 直輝(PD)
★Nano-hub ナノハブ
Keiko Kawano, 河野 恵子(研究員)
Machine Administrator†
Ryuji Yokokawa
Photo†