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コンパクトエッチャー
Samco FA-1
Specification 仕様
試料サイズ 4インチまで
Etching GAS CF4 O2
用途 ・各種パッシベーション膜の除去
・フォトレジストのアッシング
・各種シリコン薄膜のエッチング
・ガラス基板などの表面クリーニング
Procedure 利用方法
Operation Training
- Contact Prof. Tsuchiya (tutti@me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
- Get operation training.
- After operation training, e-mail to Prof. Tsuchiya and Ms. K. Kawano.
On Use (for Mechanical Eng. Depts.)
- Book the machine through Website.
through your supervisor (or contacting person).
- Use it!
On Use (for Other Depts.)
Nano-Platform Machine
- Book the machine through Website.
- Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
- Use it!
- After usage, sign to the confirmation form.
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Approved Users
★中部研究室
巽 和也(教員)
栗山 怜子(教員)
馬渕 研一(M2)
小塩 浩人(M1)
長野 湧太(B4)
★平山研究室
山下 直輝(PD)~
★土屋研究室
土屋 智由(教員)
平井 義和(教員)
楊 建東(D3)
SHU YUNYI(D3)
Xia Yuanlin(D1)
吉村 光葵(M2)
松本 有紀子(M2)
竹村 拓樹(M1)
西邑 亜香音(M1)
三浦 大知(M1)
合田 晴紀 (B4)
水本 昂宏 (B4)
鈴木 誠 (B4)
岡山 修也 (B4)
Manual
Machine Administrator
Toshiyuki Tsuchiya
Photo