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[A54]両面露光装置

ユニオン光学 PEM-800
Nano-Platform Machine

Specification 仕様

  • Upto 4inch Wafer 4インチウエハまで可能
  • Mask Holder 2.5 and 5 inch マスクホルダ:2.5インチ及び5インチ
  • Backside Mark Alignment 裏面アライメントマークによるアライメント可能
  • Resolution 解像度:~2μm
  • Compatible for alignment with Vacuum Anodic Bonder 真空陽極接合装置のアライメントに利用可能

Procedure 利用方法

Operation Training

  1. Contact Prof. R. Yokokawa to get a permission of usage.
  2. After approval from Prof. Yokokawa, get operation training from a super user.
  3. After operation training, e-mail to Prof. R. Yokokawa and Ms. K. Kawano.

Reservation

  1. Book the machine through Website.
  2. Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
  3. Use the machine.
  4. After usage, sign to the confirmation form.

Super Users

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Approved Users

★Yokokawa lab. 横川研究室
Ryuji Yokokawa, 横川 隆司(教員)
Aki Kubo, 久保 亜樹(技術補佐員)
Yuka Ozaki,尾崎 由佳(技術補佐員)
Taikoporu kaneko ,金子 泰洸ポール(教務補佐員)
Liu yang(特定助教)
Vi Nancy(研究生)
Erickson Scott(M2)
Yoshikazu Kameda,亀田良一(M2)
Youhei Issiki,一色 庸平(M2)
Ayumu Tabuchi,田渕 史(B4)

★Tsuchiya lab.土屋研究室
Toshiyuki Tsuchida, 土屋 智由(教員)
Kazutaka Obitani, 帶谷 和敬(M2)
Maki Simofuri, 霜降 真希(M2)
Yuki Yamazaki, 山崎 友希(M2)
Takafumi Moyazaki, 宮崎 貴史(M2)
Ikkei Yamauchi,山内 一慶(M2)
D Zhang,張 東暁(M2)
Kazuhiko Bun, 文 和彦 (M1)
Yukiko Matsumoto, 松本 有紀子 (M1)
koki Yoshimura,吉村 光葵(M1)
Hiroki takemura,竹村 拓樹(B4)
Akane Nishimura,西邑 亜香音(B4)
Daichi Miura,三浦 大知(B4)
Xue Peidong,(外国人研究生)

★Hirayama lab.平山研究室
Naoki Yamashita, 山下 直輝(PD)

★Nano-hub ナノハブ
Keiko Kawano, 河野 恵子(研究員)

Machine Administrator

Ryuji Yokokawa

Photo

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