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[A54]両面露光装置†
ユニオン光学 PEM-800
Nano-Platform Machine
Specification 仕様†
- Upto 4inch Wafer 4インチウエハまで可能
- Mask Holder 2.5 and 5 inch マスクホルダ:2.5インチ及び5インチ
- Backside Mark Alignment 裏面アライメントマークによるアライメント可能
- Resolution 解像度:~2μm
- Compatible for alignment with Vacuum Anodic Bonder 真空陽極接合装置のアライメントに利用可能
Procedure 利用方法†
Operation Training†
- Contact Prof. R. Yokokawa to get a permission of usage.
- After approval from Prof. Yokokawa, get operation training from a super user.
- After operation training, e-mail to Prof. R. Yokokawa and Ms. K. Kawano.
Reservation†
- Book the machine through Website.
- Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
- Use the machine.
- After usage, sign to the confirmation form.
Super Users†
See SuperUsers Page!
Approved Users
★Yokokawa lab. 横川研究室
Ryuji Yokokawa, 横川 隆司(教員)
Aki Kubo, 久保 亜樹(技術補佐員)
Yuka Ozaki,尾崎 由佳(技術補佐員)
Vi Nancy(研究生)
Erickson Scott(M2)
★Tabata lab.田畑研究室
Toshiyuki Tsuchida, 土屋 智由(教員)
Amit Banerjee(PD)
Naoki Yamashita, 山下 直輝(PD)
Kazutaka Obitani, 帶谷 和敬(M2)
Maki Simofuri, 霜降 真希(M2)
Yuki Yamazaki, 山崎 友希(M2)
Takafumi Moyazaki, 宮崎 貴史(M2)
Ikkei Yamauchi,山内 一慶(M2)
D Zhang,張 東暁(M2)
Kazuhiko Bun, 文 和彦 (M1)
Yukiko Matsumoto, 松本 有紀子 (M1)
koki Yoshimura,吉村 光葵(M1)
★Hirayama lab.平山研究室
Naoki Yamashita, 山下 直輝(PD)
★Nano-hub ナノハブ
Keiko Kawano, 河野 恵子(研究員)
Machine Administrator†
Ryuji Yokokawa
Photo†