Stepper の履歴(No.6)

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  • 1 (2013-12-30 (月) 22:12:31)
  • 2 (2013-12-30 (月) 22:17:38)
  • 3 (2013-12-31 (火) 18:19:16)
  • 4 (2014-01-05 (日) 16:52:36)
  • 5 (2014-01-05 (日) 20:25:17)
  • 6 (2014-04-21 (月) 16:08:54)
  • 7 (2014-04-22 (火) 11:32:58)
  • 8 (2019-10-06 (日) 20:13:46)
  • 9 (2020-02-23 (日) 16:56:38)
  • 10 (2020-02-23 (日) 17:04:34)
  • 11 (2021-03-09 (火) 19:42:01)
  • 12 (2021-03-09 (火) 19:42:01)
  • 13 (2021-03-16 (火) 03:56:47)

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mechCRwiki

[A52]縮小投影型露光装置(ステッパ)†

大日本科研 KS-7000
Nano-Platform Machine

Specification 仕様†

解像度			1.-2.5μm
N.A			0.2-0.09
露光光源		超高圧水銀灯
主波長			365nm/365nm+436nm
			(フィルタにより選択可能)
縮小倍率		1/2
露光範囲		Φ20-φ50mm
総合アライメント精度	<0.5um
アライメントシステム	GA
対応基板サイズ		Max.□300mm
その他特長		NA可変機構

Procedure 利用方法†

Operation Training†

1. Contact Dr. Hirai (hirai@nms.me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
2. Get operation training.
3. After operation training, e-mail to Dr. Hirai and Ms. K. Kawano.

On Use†

1. Book the machine through Website.
2. Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
3. Use it!
4. After usage, sign to the confirmation form.

Approved Users†

None

Machine Administrator†

★TABATA　LAB
Yoshikazu Hirai

Photo†