PukiWiki - DoubleSideAligner の履歴(No.57)

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[A54]両面露光装置†

ユニオン光学 PEM-800
Nano-Platform Machine

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Specification 仕様†

Upto 4inch Wafer 4インチウエハまで可能
Mask Holder 2.5 and 5 inch マスクホルダ：2.5インチ及び5インチ
Backside Mark Alignment 裏面アライメントマークによるアライメント可能
Resolution 解像度：～2μm
Compatible for alignment with Vacuum Anodic Bonder 真空陽極接合装置のアライメントに利用可能

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Procedure 利用方法†

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Operation Training†

Contact Prof. R. Yokokawa to get a permission of usage.
After approval from Prof. Yokokawa, get operation training from a super user.
After operation training, e-mail to Prof. R. Yokokawa and Ms. K. Kawano.

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Reservation†

Book the machine through Website.
Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
Use the machine.
After usage, sign to the confirmation form.

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Super Users†

See SuperUsers Page!

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Approved Users

★Kotera lab. 小寺研究室
Ryuji Yokokawa, 横川隆司（教員）
Hirofumi Shintaku, 新宅博文（教員）
Kazuya Fujimoto, 藤本和也（PD）
Hiroyuki Ogawa, 小川　裕之（研究員）
Aki Kubo, 久保　亜樹（技術補佐員）
Yuka Ozaki,尾崎　由佳（技術補佐員）
Vi Nancy(研究生）
Erickson Scott（研究生）
Sangamithirai Subramanian（D2）
Mahmoud　Atta（D2)
Shimpei Fujimoto, 藤本　真平（M2）
Daisuke Kudo, 工藤大祐（M2）
Kazuki Ukita, 浮田　一輝（M2）
Arata Tsuchida,土田　新（M1）
Tomohiro Nakagawa,中川　倫宏（M1）

★Tabata lab.田畑研究室
Toshiyuki Tsuchida, 土屋智由（教員）
Amit Banerjee(PD)
MA ZHIPENG(PD)
Wenlei Zhang(D2)
Naoki Yamashita, 山下　直輝（D3）
Yasuaki Mori, 森　保彰（M2）
Kanji Yasuda, 安田　莞司（M2）
Kentaro Kawai, 川合　健太郎（阪大・CUPAL）
Toshiki Ema, 江間　稔起（M1）
Tomoya Nakamura, 中村　友哉（M1）
Kazutaka Obitani, 帶谷　和敬（B4）
Maki Simofuri, 霜降　真希（B4）
Yuki Yamazaki, 山崎　友希（B4）
Takafumi Moyazaki, 宮崎　貴史（B4）
Takafumi Nakagawa, 中川　貴文（B4）
Ikei Yamauchi,山内　一慶（B4）

★Nano-hub ナノハブ
Keiko Kawano, 河野恵子（研究員）

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Machine Administrator†

Ryuji Yokokawa

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