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[A54]両面露光装置

ユニオン光学 PEM-800
Nano-Platform Machine

Specification 仕様

  • Upto 4inch Wafer 4インチウエハまで可能
  • Mask Holder 2.5 and 5 inch マスクホルダ:2.5インチ及び5インチ
  • Backside Mark Alignment 裏面アライメントマークによるアライメント可能
  • Resolution 解像度:~2μm
  • Compatible for alignment with Vacuum Anodic Bonder 真空陽極接合装置のアライメントに利用可能

Procedure 利用方法

Operation Training

  1. Contact Prof. R. Yokokawa to get a permission of usage.
  2. After approval from Prof. Yokokawa, get operation training from a super user.
  3. After operation training, e-mail to Prof. R. Yokokawa and Ms. K. Kawano.

Reservation

  1. Book the machine through Website.
  2. Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
  3. Use the machine.
  4. After usage, sign to the confirmation form.

Super Users

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Approved Users

★小寺研究室
横川 隆司(教員)
新宅 博文(教員)
藤本 和也(PD)
小川 裕之(研究員)
久保 亜樹(技術補佐員)
Sangamithirai Subramanian(D2)
藤本 真平(M2)
工藤 大祐(M2)
浮田 一輝(M2)

★田畑研究室
土屋 智由(教員)
Amit Banerjee(PD)
MA ZHIPENG(PD)
Wenlei Zhang(D2)
山下 直輝(D3)
森 保彰(M2)
安田 莞司(M2)
川合 健太郎(阪大・CUPAL)
江間 稔起(M1)
中村 友哉(M1)
帶谷 和敬(B4)
霜降 真希(B4)
山崎 友希(B4)
宮崎 貴史(B4)
中川 貴文(B4)

★ナノハブ
河野 恵子(研究員)

Machine Administrator

Ryuji Yokokawa

Photo

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