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[A54]両面露光装置†
ユニオン光学 PEM-800
Nano-Platform Machine
Specification 仕様†
- Upto 4inch Wafer 4インチウエハまで可能
- Mask Holder 2.5 and 5 inch マスクホルダ:2.5インチ及び5インチ
- Backside Mark Alignment 裏面アライメントマークによるアライメント可能
- Resolution 解像度:~2μm
- Compatible for alignment with Vacuum Anodic Bonder 真空陽極接合装置のアライメントに利用可能
Procedure 利用方法†
Operation Training†
- Contact Prof. R. Yokokawa to get a permission of usage.
- After approval from Prof. Yokokawa, get operation training from a super user.
- After operation training, e-mail to Prof. R. Yokokawa and Ms. K. Kawano.
Reservation†
- Book the machine through Website.
- Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
- Use the machine.
- After usage, sign to the confirmation form.
Super Users†
See SuperUsers Page!
Approved Users
★小寺研究室
横川 隆司(教員)
新宅 博文(教員)
藤本 和也(PD)
小川 裕之(研究員)
久保 亜樹(技術補佐員)
Sangamithirai Subramanian(D2)
藤本 真平(M2)
工藤 大祐(M2)
浮田 一輝(M2)
★田畑研究室
土屋 智由(教員)
Amit Banerjee(PD)
MA ZHIPENG(PD)
Wenlei Zhang(D2)
山下 直輝(D3)
森 保彰(M2)
安田 莞司(M2)
川合 健太郎(阪大・CUPAL)
江間 稔起(M1)
中村 友哉(M1)
帶谷 和敬(B4)
霜降 真希(B4)
山崎 友希(B4)
宮崎 貴史(B4)
中川 貴文(B4)
★ナノハブ
河野 恵子(研究員)
Machine Administrator†
Ryuji Yokokawa
Photo†