Samco FA-1
試料サイズ 4インチまで Etching GAS CF4 O2 用途 ・各種パッシベーション膜の除去 ・フォトレジストのアッシング ・各種シリコン薄膜のエッチング ・ガラス基板などの表面クリーニング
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★中部研究室
巽 和也(教員)
栗山 怜子(教員)
野口 真之介(M2)
堀井 悟史(M2)
中川 友貴(M1)
槙 恭成(M1)
柳本 篤則(M1)
榎阪 武彦(M1)
野間 淳志(M1)
辰巳 朗(B4)
角野 達也(B4)
當間 凌弥(B4)
★田畑研究室
土屋 智由(教員)
平井 義和(教員)
松木 善隆(共同研究員)
Banerjee Amit(PD)
Ma Zhipeng(PD)
山下 直輝(D3)
Wenlei Zhang 張 文磊(D2)
Seongsu Park (D2)
楊 建東(D1)
川合 健太郎(CUPAL・阪大)
安田 莞司(M2)
中村 克生(M2)
森 保彰(M2)
呉 東沢(M2)
江間 稔起(M1)
中村 友哉(M1)
辻 勇亮(M1)
帶谷 和敬(B4)
霜降 真希(B4)
山崎 友希(B4)
呉 家旭(B4)
★小寺研究室
藤本 和也(PD)
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Toshiyuki Tsuchiya