mechCRwiki
EB蒸着装置
Yashima Custom made
Specification 仕様
- up to 4inch Wafer 4インチウエハまで
- 4 source boats (Au, Cr, Ti, Pt, Al, etc.)
Procedure 利用方法
Operation Training
- Contact Prof. Tsuchiya (tutti@me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
- Get operation training.
- After operation training, e-mail to Prof. Tsuchiya and Ms. K. Kawano.
On Use
- Book the machine through Website.
- Use it!
Super Users
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Approved Users
★土屋研究室
土屋 智由(教員)
Kazuhiko Bun, 文 和彦 (M2)
Yukiko Matsumoto, 松本 有紀子 (M2)
竹村 拓樹(M1)
西邑 亜香音(M1)
三浦 大知(M1)
合田 晴紀 (B4)
水本 昂宏 (B4)
鈴木 誠 (B4)
岡山 修也 (B4)
★平山研究室
山下 直輝(PD)
★江利口研究室
濱野 誉(D1)
Manual
- 装置マニュアル
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- 膜厚計マニュアル
EB_thick_monitor.pdf
Machine Administrator
Toshiyuki Tsuchiya
Photo