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EB蒸着装置

Yashima Custom made

Specification 仕様

  • up to 4inch Wafer 4インチウエハまで
  • 4 source boats (Au, Cr, Ti, Pt, Al, etc.)

Procedure 利用方法

Operation Training

  1. Contact Prof. Tsuchiya (tutti@me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
  2. Get operation training.
  3. After operation training, e-mail to Prof. Tsuchiya and Ms. K. Kawano.

On Use

  1. Book the machine through Website.
  2. Use it!

Super Users

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Approved Users

★土屋研究室
土屋 智由(教員)
Amit Banerjee(PD)
帶谷 和敬(M2)
霜降 真希(M2)
山崎 友希(M2)
張 東暁(M2)
Kazuhiko Bun, 文 和彦 (M1)
Yukiko Matsumoto, 松本 有紀子 (M1)
竹村 拓樹(B4)
西邑 亜香音(B4)
三浦 大知(B4)
Xue, Peidong (Researcher)

★平山研究室
山下 直輝(PD)

★江利口研究室
濱野 誉(M2)

Manual

  • 装置マニュアル &ref(): File not found: "EB_Depo_manual140108.pdf" at page "EBDeposition";
  • 膜厚計マニュアル fileEB_thick_monitor.pdf

Machine Administrator

Toshiyuki Tsuchiya

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