mechCRwiki
EB蒸着装置
Yashima Custom made
Specification 仕様
- up to 4inch Wafer 4インチウエハまで
- 4 source boats (Au, Cr, Ti, Pt, Al, etc.)
Procedure 利用方法
Operation Training
- Contact Prof. Tsuchiya (tutti@me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
- Get operation training.
- After operation training, e-mail to Prof. Tsuchiya and Ms. K. Kawano.
On Use
- Book the machine through Website.
- Use it!
Super Users
See SuperUsers Page!
Approved Users
★田畑研究室
土屋 智由(教員)
Amit Banerjee(PD)
山下 直輝(D3)
張 文磊 (Wenlei Zhang) (D3)
江間 稔起(M2)
帶谷 和敬(M1)
霜降 真希(M1)
山崎 友希(M1)
張 東暁(M1)
Kazuhiko Bun, 文 和彦 (B4)
Yukiko Matsumoto, 松本 有紀子 (B4)
Hiroki Yun, 尹 弘樹 (B4)
★江利口研究室
濱野 誉(M1)
Manual
- 装置マニュアル
&ref(): File not found: "EB_Depo_manual140108.pdf" at page "EBDeposition";
- 膜厚計マニュアル
EB_thick_monitor.pdf
Machine Administrator
Toshiyuki Tsuchiya
Photo