ICP-RIE の履歴(No.3)

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• ICP-RIE へ行く。
  • 1 (2013-11-15 (金) 18:47:15)
  • 2 (2013-11-15 (金) 18:48:24)
  • 3 (2013-11-16 (土) 11:53:19)
  • 4 (2013-12-31 (火) 18:46:14)
  • 5 (2014-01-05 (日) 16:54:53)
  • 6 (2014-01-05 (日) 20:42:20)
  • 7 (2014-04-09 (水) 16:48:51)
  • 8 (2015-04-15 (水) 15:59:13)
  • 9 (2015-08-19 (水) 14:58:18)
  • 10 (2016-04-01 (金) 11:07:39)
  • 11 (2018-05-18 (金) 18:58:20)
  • 12 (2018-06-27 (水) 15:33:07)
  • 13 (2018-09-03 (月) 13:46:33)
  • 14 (2018-12-19 (水) 13:43:18)
  • 15 (2019-10-06 (日) 20:13:46)
  • 16 (2019-11-06 (水) 16:55:41)
  • 17 (2019-11-19 (火) 10:49:24)
  • 18 (2019-12-09 (月) 13:31:39)
  • 19 (2020-02-23 (日) 16:58:54)
  • 20 (2020-09-17 (木) 17:37:13)
  • 21 (2021-03-02 (火) 19:09:01)
  • 22 (2021-03-03 (水) 01:17:06)
  • 23 (2021-03-09 (火) 19:47:41)
  • 24 (2021-03-09 (火) 19:47:42)
  • 25 (2021-03-16 (火) 20:27:24)
  • 26 (2021-05-09 (日) 05:03:25)
  • 27 (2023-06-09 (金) 11:43:31)
  • 28 (2025-03-24 (月) 16:03:06)

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mechCRwiki

ICP-RIE†

ULVAC NE-730
Nano-Platform Machine

Specification 仕様†

• 4inch Wafer 4インチウエハ専用
• Etching GAS: SF6 CF4 CHF3 C4F8 Ar O2

Procedure 利用方法†

First time†

1. Contact Prof. Tsuchiya.
2. After operation training, contact to CR Admin to register.

Reservation†

1. Book the machine through Website.
2. Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
3. Use it!
4. After usage, sign to the confirmation form.

Approved Users†

Kazunori Sanada

Manual†

&ref(): File not found: "ICP-RIE説明書(第4.1版).pdf" at page "ICP-RIE";

Machine Administrator†

Toshiyuki Tsuchiya

Photo†