mechCRwiki
EB蒸着装置
Yashima Custom made
Specification 仕様
- up to 4inch Wafer 4インチウエハまで
- 4 source boats (Au, Cr, Ti, Pt, Al, etc.)
Procedure 利用方法
Operation Training
- Contact Prof. Tsuchiya (tutti@me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
- Get operation training.
- After operation training, e-mail to Prof. Tsuchiya and Ms. K. Kawano.
On Use
- Book the machine through Website.
- Use it!
Super Users
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Approved Users
★田畑研究室
土屋 智由(教員)
Amit Banerjee(PD)
川合 健太郎(CUPAL・阪大)
上杉 晃生(D3)
山下 直輝(D2)
張 文磊 (Wenlei Zhang) (D1)
宇野 亜希子(M2)
塩見 勇佑(M2)
大牧 達矢(M2)
田渕 友樹(M1)
安田 莞司(M1)
森 保彰(M1)
呉 東沢(M1)
江間 稔起(B4)
Manual
- 装置マニュアル
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- 膜厚計マニュアル
EB_thick_monitor.pdf
Machine Administrator
Toshiyuki Tsuchiya
Photo