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EB蒸着装置

Yashima Custom made

Specification 仕様

  • up to 4inch Wafer 4インチウエハまで
  • 4 source boats (Au, Cr, Ti, Pt, Al, etc.)

Procedure 利用方法

Operation Training

  1. Contact Prof. Tsuchiya (tutti@me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
  2. Get operation training.
  3. After operation training, e-mail to Prof. Tsuchiya and Ms. K. Kawano.

On Use

  1. Book the machine through Website.
  2. Use it!

Super Users

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Approved Users

★田畑研究室
土屋 智由(教員)
Singh Vijay Kumar(PD)
Amit Banerjee(PD)
川合 健太郎(CUPAL・阪大)
上杉 晃生(D3)
山下 直輝(D1)
邊見 哲也(M2)
寺島 健太(M2)
松井 祐樹(M2)
寺島 健太(M2)
宇野 亜希子(M1)
山本 祥貴(M1)
塩見 勇佑(M1)
大牧 達矢(M1)
田渕 友樹(B4)
安田 莞司(B4)
張 文磊 (Wenlei Zhang) (D1)

Manual

  • 装置マニュアル &ref(): File not found: "EB_Depo_manual140108.pdf" at page "EBDeposition";
  • 膜厚計マニュアル fileEB_thick_monitor.pdf

Machine Administrator

Toshiyuki Tsuchiya

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