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[A54]両面露光装置†
ユニオン光学 PEM-800
Nano-Platform Machine
Specification 仕様†
- Upto 4inch Wafer 4インチウエハまで可能
- Mask Holder 2.5 and 5 inch マスクホルダ:2.5インチ及び5インチ
- Backside Mark Alignment 裏面アライメントマークによるアライメント可能
- Resolution 解像度:~2μm
- Compatible for alignment with Vacuum Anodic Bonder 真空陽極接合装置のアライメントに利用可能
Procedure 利用方法†
Operation Training†
- Contact Prof. R. Yokokawa to get a permission of usage.
- After approval from Prof. Yokokawa, get operation training from a super user.
- After operation training, e-mail to Prof. R. Yokokawa and Ms. K. Kawano.
Reservation†
- Book the machine through Website.
- Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
- Use the machine.
- After usage, sign to the confirmation form.
Super Users†
See SuperUsers Page!
Approved Users
★小寺研究室
横川 隆司(教員)
新宅 博文(教員)
西村 百合子(教務補佐員)
中原 佐(D3)
Subhathirai Subramaniyan(D2)
藤本 和也(D2)
磯崎 直人(D1)
林 智也(M2)
四方 惟武希(M1)
藁谷 卓也(M1)
尾田 文恵(M1)
★田畑研究室
土屋 智由(教員)
Singh Vijay Kumar(PD)
外薗 洸佑(M2)
小北 雄亮(M2)
寺島 健太(M1)
邊見 哲也(M1)
宇野 亜希子(B4)
山本 祥貴(B4)
★ナノハブ
河野 恵子(研究員)
Machine Administrator†
Ryuji Yokokawa
Photo†