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コンパクトエッチャー
Samco FA-1
Specification 仕様
試料サイズ 4インチまで
Etching GAS CF4 O2
用途 ・各種パッシベーション膜の除去
・フォトレジストのアッシング
・各種シリコン薄膜のエッチング
・ガラス基板などの表面クリーニング
Procedure 利用方法
Operation Training
- Contact Prof. Tsuchiya (tutti@me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
- Get operation training.
- After operation training, e-mail to Prof. Tsuchiya and Ms. K. Kawano.
On Use (for Mechanical Eng. Depts.)
- Book the machine through Website.
through your supervisor (or contacting person).
- Use it!
On Use (for Other Depts.)
Nano-Platform Machine
- Book the machine through Website.
- Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
- Use it!
- After usage, sign to the confirmation form.
See SuperUsers Page!
Approved Users
★中部研究室
巽 和也(教員)
杉本 広輔(M2)
川野 光輝(M2)
藤井 崇史(M2)
森 秀輔(M1)
徐 季璇(M1)
★田畑研究室
土屋 智由(教員)
平井 義和(教員)
加藤 義基(M2)
小北 雄亮(M2)
Seongsu Park (M1)
邊見 哲也(M1)
★小寺研究室
Subhathirai Subramaniyan(D2)
長尾 圭将(M1)
森田 有貴(B4)
Manual
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Machine Administrator
Toshiyuki Tsuchiya
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