ElectronBeamWriter の履歴(No.12)

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  • 1 (2013-12-31 (火) 18:38:55)
  • 2 (2013-12-31 (火) 18:39:10)
  • 3 (2014-01-02 (木) 10:56:56)
  • 4 (2014-01-05 (日) 16:54:17)
  • 5 (2014-01-05 (日) 20:39:46)
  • 6 (2014-04-10 (木) 12:41:11)
  • 7 (2014-04-21 (月) 16:08:06)
  • 8 (2018-04-27 (金) 13:58:01)
  • 9 (2018-07-10 (火) 10:19:08)
  • 10 (2018-09-13 (木) 18:51:17)
  • 11 (2019-10-06 (日) 20:13:45)
  • 12 (2019-11-06 (水) 16:55:15)
  • 13 (2020-02-23 (日) 16:58:38)
  • 14 (2020-04-08 (水) 00:48:46)
  • 15 (2021-03-09 (火) 19:49:06)
  • 16 (2021-03-09 (火) 19:49:06)

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mechCRwiki

[A51]電子ビーム露光装置

Tokyo Tech L-5000
Nano-Platform Machine

Specification 仕様

電子銃				カートリッジ交換方式
				（プリセンタードフィラメント使用）
加速電圧			0.5～3kV;0.1kステップ（26段階）
				5～30kV；5kVステップ（6段階）
最小電子ビーム径		約10nm
描画最小線幅			約0.1μm
SEMのスキャニングユニットで	最大2mm×2mm
一度に描画できる範囲		（収差を無視すれば3mm×3mm）

Procedure 利用方法

Operation Training

1. Contact Prof.Yokokawa (ryuji@me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
2. Get operation training.
3. After operation training,e-mail to Prof.Yokokawa and Ms. K. Kawano.

Reservation

1. Book the machine through Website.
2. Use the machine.

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★Yokokawa　LAB
Ryuji Yokokawa
Hirofumi Shintaku
★Tsuchiya　LAB
Yoshikazu Hirai

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Ryuji YOKOKAWA

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