DoubleSideAligner
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[A54]両面露光装置†
ユニオン光学 PEM-800
Nano-Platform Machine
Specification 仕様†
- Upto 4inch Wafer 4インチウエハまで可能
- Mask Holder 2.5 and 5 inch マスクホルダ:2.5インチ及び5インチ
- Backside Mark Alignment 裏面アライメントマークによるアライメント可能
- Resolution 解像度:~2μm
- Compatible for alignment with Vacuum Anodic Bonder 真空陽極接合装置のアライメントに利用可能
Procedure 利用方法†
Operation Training†
- Contact Prof. R. Yokokawa to get a permission of usage.
- After approval from Prof. Yokokawa, get operation training from a super user.
- After operation training, e-mail to Prof. R. Yokokawa and Ms. K. Kawano.
Reservation†
- Book the machine through Website.
- Prepare nanohub reservation form and send it to nanohub office through your supervisor (or contacting person).
- Use the machine.
- After usage, sign to the confirmation form.
Super Users†
See SuperUsers Page!
Approved Users†
★Yokokawa lab. 横川研究室
Ryuji Yokokawa, 横川 隆司(教員)
Kazuya Fujimoto,藤本 和也(教員)
Tomomi Matsumoto,松本 倫美(教員)
Aki Kubo, 久保 亜樹(研究員)
Yoshikazu Kameda,亀田 良一(受託研究員)
Ma Cheng(特定研究員)
Atsuya Kitada,北田 敦也(D2)
KOH WEI LUN DARRYL(D2)
Jo Sugawa,洲河 青(M2)
★Tsuchiya lab.土屋研究室
Toshiyuki Tsuchiya, 土屋 智由(教員)
Jun Hirotani,廣谷 潤(教員)
Masaki Shimofuri,霜降 真樹(教員)
Tsubasa Suzuki,鈴木 翼(技術補佐員)
Yuta Kawashima,川島 優太(M2)
Kosuke Shima,島 康介(M2)
Kotaro Nose,能勢 孝太郎(M1)
Mitani Junichiro,三谷 淳一郎(B4)
★Nano-hub ナノハブ
Keiko Kawano, 河野 恵子(研究員)
Machine Administrator†
Ryuji Yokokawa
Photo†