ICP-RIE の履歴(No.1)

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• ICP-RIE へ行く。
  • 1 (2013-11-15 (金) 18:47:15)
  • 2 (2013-11-15 (金) 18:48:24)
  • 3 (2013-11-16 (土) 11:53:19)
  • 4 (2013-12-31 (火) 18:46:14)
  • 5 (2014-01-05 (日) 16:54:53)
  • 6 (2014-01-05 (日) 20:42:20)
  • 7 (2014-04-09 (水) 16:48:51)
  • 8 (2015-04-15 (水) 15:59:13)
  • 9 (2015-08-19 (水) 14:58:18)
  • 10 (2016-04-01 (金) 11:07:39)
  • 11 (2018-05-18 (金) 18:58:20)
  • 12 (2018-06-27 (水) 15:33:07)
  • 13 (2018-09-03 (月) 13:46:33)
  • 14 (2018-12-19 (水) 13:43:18)
  • 15 (2019-10-06 (日) 20:13:46)
  • 16 (2019-11-06 (水) 16:55:41)
  • 17 (2019-11-19 (火) 10:49:24)
  • 18 (2019-12-09 (月) 13:31:39)
  • 19 (2020-02-23 (日) 16:58:54)
  • 20 (2020-09-17 (木) 17:37:13)
  • 21 (2021-03-02 (火) 19:09:01)
  • 22 (2021-03-03 (水) 01:17:06)
  • 23 (2021-03-09 (火) 19:47:41)
  • 24 (2021-03-09 (火) 19:47:42)
  • 25 (2021-03-16 (火) 20:27:24)
  • 26 (2021-05-09 (日) 05:03:25)
  • 27 (2023-06-09 (金) 11:43:31)
  • 28 (2025-03-24 (月) 16:03:06)

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[[mechCRwiki]

ICP-RIE†

NanoplatHomeMachine

Specification 仕様†

• 4inch Wafer 4インチウエハ専用
• Etching GAS: SF6 CF4 CHF3 C4F8 Ar O2

Procedure 利用方法†

1. Contact to Prof. T. Tsuchiya (tutti@me.kyoto-u.ac.jp).

Approved Users†

Kazunori Sanada

Machine Administrator†

Toshiyuki Tsuchiya

Photo†