DualCathodeDCSputter の履歴(No.1)

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  • 1 (2025-02-21 (金) 19:10:44)

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DualCathodeDCSputter

2元DCスパッタ†

Eiko Engineering VX-200T

Specification 仕様†

• up to 4inch Wafer 4インチウエハまで
• Dual 2 inch Cathode

Procedure 利用方法†

Operation Training†

1. Contact Prof. Tsuchiya (tutti@me.kyoto-u.ac.jp) to get a permission of usage.
2. Get operation training.
3. After operation training, e-mail to Prof. Tsuchiya and Ms. K. Kawano.

On Use†

1. Book the machine through Website.
2. Use it!

Super Users†

See SuperUsers Page!

Approved Users†

★土屋研究室
土屋 智由（教員）

Manual†

• 装置マニュアル
• 膜厚計マニュアル

Machine Administrator†

Toshiyuki Tsuchiya

Photo†