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両面露光装置

NanoplatHomeMachine

Specification 仕様

  • Upto 4inch Wafer 4インチウエハまで可能
  • Mask Holder 2.5 and 5 inch マスクホルダ:2.5インチ及び5インチ
  • Backside Mark Alignment 裏面アライメントマークによるアライメント可能
  • Resolution 解像度:~2μm
  • Compatible for alignment with Vacuum Anodic Bonder 真空陽極接合装置のアライメントに利用可能

Procedure 利用方法

  1. First time user should contact Prof. R. Yokokawa (ryuji@me.kyoto-u.ac.jp) before user training.
  2. Ask a super user for training session.
  3. Upon approval of your usage, the super user email to Prof. R. Yokokawa and Ms. Y. Nishimura (nishimura.yuriko.7c@kyoto-u.ac.jp).
  4. Once authorized, your can book and use the equipment.

SuperUsers

Yuriko Nishimura (Ext. 3687)
Kazuya Fujimoto (Ext. 3687)
Takao Kajimoto (Ext. 3687)
Junya Suzuki (Ext. 3693)

ApprovedUsers

Machine Administrator

Ryuji Yokokawa

Photo

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